铜系统

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铜器集成电路

浸铜该工艺提供了一个具有优异附着力的均匀沉积物。该工艺允许随后进行酸性铜处理,无需镍击,并有助于电镀大型和复杂形状的塑料零件。根据应用情况,铜器IC后面要么是铜线,要么是亮铜。

铜花594

铜击为后续的铜沉积提供更高的抛撒能力、更好的均匀性和平整度。

CUPROSTAR 1600型

染料基酸性铜。出色的亮度和镜面光洁度。用于塑料电镀(POP)。
CUPROSTAR 1600型是理想的地区,需要非常高的水平与出色的亮度投掷能力,毛孔不敏感,不会造成烧伤的HCD地区

CUMAC OPTIMA公司

染料基装饰酸性铜具有超高流平性,优异的低电流密度亮度。非常适合复杂形状和深凹零件。适用于塑料(如ABS和PC/ABS)和金属(要求高度平整)的电镀系统。

库罗斯塔1610

无染料酸性铜。不要过度找平。无污泥形成。清洁罐壁。不易受凹坑和毛孔的影响。适用于平整的光滑表面,满足POP应用的行业需求

CUPROSTAR数控

无氰碱铜法适用于所有常用的金属基材,包括锌压铸。该工艺在复杂的零件几何形状上表现出优异的抛撒能力和附着力。CUPROSTAR NC提供一种半光亮的铜镀层,适合作为镍和铬镀层的冲击层或主铜层

克莱波SP

无氰焦磷酸铜作为铜击镀工艺是在钢上镀难镀基体和POP的特殊应用中最常用的工艺。也可直接应用于经Bondal CF(不含CN的锌酸盐)处理的铝表面

镍系统

ELPELYT®SB-45型

这个半光亮镍其设计可确保镍镀层的内应力在受到直接冲击时降低,消除附着力损失。与MacDermid-Enthone多层镍体系相结合,该工艺具有优异的抛撒能力,从而产生更好的腐蚀行为188金宝搏官网版下载

埃尔佩利特LS-1

亮镍在宽电流密度范围内提高亮度,提供高装饰性光亮镍镀层。表现出低应力和卓越的覆盖和整平能力。

尼马克号角II

亮镍具有良好的流平性和高光泽和韧性的镍层,适用于金属
和塑料镀层。

埃尔佩利特GS-7

亮镍是专门设计的金属基板电镀。在钢、黄铜和其他金属基底上具有特殊覆盖的高整平工艺。由于在低电流密度区域镀较厚的镍,因此具有良好的抛掷能力,从而产生更好的腐蚀行为

尼美克挑战者升级版

亮镍用于高性能金属镀层,具有优异的平整度和亮度。具有很好的镀层延展性和铬接受性。具有宽工作窗口,例如对增白剂过量的耐受性。

爱宝丽

哑光镍工艺提供了一个可复制的和均匀的缎子存款给设计师一个从光到亚光完成全方位的灵活性。一系列业界领先的缎面镍饰面,用于汽车、卫生和其他装饰应用。所有主要汽车OEM指定和批准

DURNi 4000(微孔)

微孔镍该工艺提供了无与伦比的防腐蚀保护,同时使铬表面形成一致且可重复的微孔沉积物。具有良好的孔分布(微孔>10.000孔/cm²)和稳定的台阶

ELPELYT MR(微裂纹)

微裂纹镍该工艺可提供可重复的裂纹计数(微裂纹20-80/mm(200-800/cm)),可根据要求提高CASS的耐腐蚀性能

NiMac Hi-S 8108(高硫)

在半光亮镍层和光亮镍层之间沉积的高活性镍层。
在汽车等应用中提供最终的耐腐蚀性。

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铬系

安科®

六价亮铬工艺提供高沉积速率、均匀沉积以及优异的耐腐蚀和耐磨性。该工艺适用于各种电流密度和温度下,从而简化了操作。

三字节闪光SF

硫酸盐为基础,白色三价铬非钢应用提供了特殊的覆盖面和明亮,光的颜色可与传统的六价铬层。在正常的电流密度范围内,闪蒸SF沉积是一致的。与传统的六价层相比,TRILYTE Flash SF可耐受电流中断,提供更均匀的金属分布,减少或消除高电流密度燃烧

三字节闪光CL

氯化物基镀层的颜色与总电流密度范围一致。与传统的六价铬镀层相比,该工艺能够耐受电流中断,提供极好的均匀金属分布,并减少或消除燃烧。

斜纹岩

硫酸盐基中深色三价铬溶液。外部应用的耐用饰面。开发用于汽车,卫生和消费电子应用。

星岩

硫酸盐基,深色三价铬溶液在市场上广为人知。该工艺提供均匀的金属分布和稳定的颜色。Starlite工艺采用简单的添加剂体系。

TriMac日食

最深的三价铬提供光泽,均匀的存款以及可复制和稳定的深色。该工艺提供更均匀的金属分布,同时减少或消除高电流密度燃烧,TriMac ECLIPSE符合OEM装饰规范